一种用于气基还原冶金的石墨坩埚及方法（高校公示15天）（不包年费滞纳金）（需要二变）

本申请实施例涉及一种用于气基还原冶金的石墨坩埚及方法，属于冶金反应器技术领域。本申请实施例旨在解决针对气基还原冶金中现有石墨坩埚生产周期长、还原性气体利用率低的技术问题。本申请实施例的用于气基还原冶金的石墨坩埚，包括石墨坩埚主体，石墨坩埚主体的两端设置有气体导流盖，气体导流盖上设置有密集的筛状通孔。本申请实施例中石墨坩埚在冶炼过程起到装料容器和发热体作用的同时，通过凸起及筛状通孔气体导流盖的设计，能够使进入石墨坩埚的还原性气体不直接排除，而是产生回流，在石墨坩埚中充分分散，使多余的未反应气体再次利用参与反应，使反应气体能够充分被利用，减少浪费，提高还原性气体的利用率。

《一种用于气基还原冶金的石墨坩埚及方法（高校公示15天）（不包年费滞纳金）（需要二变）》是一发明专利，专利号为 2024113251266，当前法律状态为已下证，由云南大学提出申请，发明人为张茂;周桐;柳清菊;肖斌;张瑾;张裕敏，申请日期为2024-09-23，公开（公告）日期为2026-04-10，国际专利分类号（IPC）为 F27B 14/10 (2006.01)，高新资质：未报高企。该专利已下发证书，权利稳定，适合直接办理转让过户，是企业申报高企、项目招投标、质押融资的优质标的。赋翼网提供从选品、尽调、合同签订到官方著录项目变更（过户）的一站式专利转让服务，专业顾问全程协助，确保交易合规、安全、高效。专利摘要：本申请实施例涉及一种用于气基还原冶金的石墨坩埚及方法，属于冶金反应器技术领域。本申请实施例旨在解决针对气基还原冶金中现有石墨坩埚生产周期长、还原性气体利用率低的技术问题。本申请实施例的用于气基还原冶金的石墨坩埚，包括石墨坩埚主体，石墨坩埚主体的两端设置有气体导流盖，气体导流盖上设置有密集的筛状通孔。本申请实施例中石墨坩埚在冶炼过程起到装料容器和发热体作用的同时，通过凸起及筛状通孔气体导流盖的设计，能够使进入石墨坩埚的还原性气体不直接排除，而是产生回流，在石墨坩埚中充分分散，使多余的未反应气体再次利用参与反应，使反应气体能够充分被利用，减少浪费，提高还原性气体的利用率。

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